| dc.contributor.author |
สุรสิงห์ ไชยคุณ |
|
| dc.contributor.author |
นิรันดร์ วิฑิตอนันต์ |
|
| dc.contributor.other |
มหาวิทยาลัยบูรพา. คณะวิทยาศาสตร์ |
|
| dc.date.accessioned |
2019-03-25T08:45:58Z |
|
| dc.date.available |
2019-03-25T08:45:58Z |
|
| dc.date.issued |
2553 |
|
| dc.identifier.uri |
http://dspace.lib.buu.ac.th/xmlui/handle/1234567890/205 |
|
| dc.description.abstract |
ฟิล์มบางไททาเนียมไดออกไซด์ (Tio2) เคลือบบนกระจกสไลด์และแผ่นซิลิกอน ด้วยเทคนิครีแอคตีฟ ดีซีแมกนีตรอน สปัตเตอริง ที่อัตราไหลแก๊สต่างกันและที่ความดันรวมขณะเคลือบต่างกัน นำฟิล์มที่เคลือบได้ไปศึกษาโครงสร้างผลึก ลักษณะพื้นผิวและความหนาฟิล์ม ด้วยเทคนิค XRD และ AFM ตามลำดับ ผลการศึกษาพบว่า กรณีแปรค่าอัตราไหลแก๊ส ฟิล์มที่ได้แสดงความเป็นผลึกทีสอดคล้องกับเฟสรูไทล์ระนาบ (1 1 0) ลักษณะพื้นผิวเรียบไม่แตก ความหนาประมาณ 90 nm ถึง 140 nm ส่วนกรณีแปรค่าความดันรวม ผลของ XRD แสดงให้เห็นว่าฟิล์มที่เคลือบได้มีความเป็นผลึกและมีการเปลี่ยนเฟสจากเฟสผสมของอนาเทสและรูไทล์ เป็น รูไทล์ เมื่อความดันรวมขณะเคลือบลดลง ฟิล์มที่เคลือบได้มีความหนาในช่วง 133 nm ถึง 168 nm ทั้งนี้เมื่อความดันรวมเพิ่มขึ้น พบว่า ความหยาบผิวเพิ่มขึ้นด้วย |
th_TH |
| dc.description.sponsorship |
โครงการวิจัยนี้ได้รับการสนับสนุนการวิจัยงบประมาณแผ่นดิน ประจำปีงบประมาณ 2553 มหาวิทยาลัยบูรพา |
en |
| dc.language.iso |
th |
th_TH |
| dc.publisher |
คณะวิทยาศาสตร์ มหาวิทยาลัยบูรพา |
th_TH |
| dc.subject |
ฟิล์มบาง |
th_TH |
| dc.subject |
รีแอคทีฟ สปัตเตอริง |
th_TH |
| dc.subject |
สาขาวิทยาศาสตร์กายภาพและคณิตศาสตร์ |
th_TH |
| dc.title |
การวิจัยและพัฒนาการเคลือบผิวสเตนเลสด้วยไททาเนียมไดออกไซด์ระดับนาโนด้วยเทคนิครีแอคทีฟ แมกนีตรอน สปัตเตอริง สำหรับประยุกต์ใช้ทางการแพทย์ |
th_TH |
| dc.title.alternative |
Research and development of coating titanium dioxide nano film on stainless steel by reactive magnetron sputtering technique for mesical applications |
en |
| dc.type |
งานวิจัย |
|
| dc.year |
2553 |
|
| dc.description.abstractalternative |
Titanium dioxide thin films (Tio2) have been deposited on unheated substrate of the glass slide and Si-wafer by DC reactive magnetrin sputtering method at different gas flow rate and different total pressures. The crystal structure, surface morphology and thickness were characterized by XRD and AFM, respectively. The results show that, in the case of vary gas flow rate, the deposited flim showed the crystalline structure corresponding to the TiO2 with rutile TiO2 (1 1 0) phase only and smooth surface without crack with the thickness of about 90-140 nm. In the case of vary total pressures, XRD results show that all samples possessed polycrystalline structure and changed from mixed phase of anatase and rutile to rutile phases as decrease the total pressure. The increase of films roughness was observed with increasing the sputtering pressure and the thickness was about 133-168 nm. |
en |