Abstract:
ฟิล์มบางไททาเนียมไดออกไซด์ (Tio2) เคลือบบนกระจกสไลด์และแผ่นซิลิกอน ด้วยเทคนิครีแอคตีฟ ดีซีแมกนีตรอน สปัตเตอริง ที่อัตราไหลแก๊สต่างกันและที่ความดันรวมขณะเคลือบต่างกัน นำฟิล์มที่เคลือบได้ไปศึกษาโครงสร้างผลึก ลักษณะพื้นผิวและความหนาฟิล์ม ด้วยเทคนิค XRD และ AFM ตามลำดับ ผลการศึกษาพบว่า กรณีแปรค่าอัตราไหลแก๊ส ฟิล์มที่ได้แสดงความเป็นผลึกทีสอดคล้องกับเฟสรูไทล์ระนาบ (1 1 0) ลักษณะพื้นผิวเรียบไม่แตก ความหนาประมาณ 90 nm ถึง 140 nm ส่วนกรณีแปรค่าความดันรวม ผลของ XRD แสดงให้เห็นว่าฟิล์มที่เคลือบได้มีความเป็นผลึกและมีการเปลี่ยนเฟสจากเฟสผสมของอนาเทสและรูไทล์ เป็น รูไทล์ เมื่อความดันรวมขณะเคลือบลดลง ฟิล์มที่เคลือบได้มีความหนาในช่วง 133 nm ถึง 168 nm ทั้งนี้เมื่อความดันรวมเพิ่มขึ้น พบว่า ความหยาบผิวเพิ่มขึ้นด้วย