| dc.contributor.author |
สุรสิงห์ ไชยคุณ |
|
| dc.contributor.author |
นิรันดร์ วิฑิตอนันต์ |
|
| dc.contributor.other |
มหาวิทยาลัยบูรพา. คณะวิทยาศาสตร์ |
|
| dc.date.accessioned |
2019-03-25T09:04:26Z |
|
| dc.date.available |
2019-03-25T09:04:26Z |
|
| dc.date.issued |
2556 |
|
| dc.identifier.uri |
http://dspace.lib.buu.ac.th/xmlui/handle/1234567890/1324 |
|
| dc.description.abstract |
ฟิล์มบางนาโนของ TiOxNy หรือ ฟิล์มบางไททาเนียมออกไซด์เจือไนโตรเจน (N-doped TiO2) เคลือบบนกระจกสไลด์ และแผ่นซิลิกอน ด้วยวิธีแอคตีฟดีซีแมกนีตรอนสปัตเตอริง ผลของเงื่อนไข
การเคลือบได้แก่ อัตราไหลแก๊สไนโตรเจนได้ถูกศึกษา โดยสมบัติของฟิล์มบางที่เคลือบได้ ได้แก่ โครงสร้างเหล็ก ลักษณะพื้นผิว ความหนาและค่าการส่งผ่านแสง ถูกตรวจสอบด้วย X-ray diffraction (XRD), Atomic Force Microscopy (AFM) และสเปคโตรไฟโตมิเตอร์ตามลำดับ
ค่าคงที่ทางแสงและแถบพลังงานของฟิล์มที่เคลือบได้คำนวณจากสเปคตรัมการส่งผ่านแสง
ผลการศึกษาพบว่าระยะห่างระหว่างวัสดุรองรับกับเป้าสารเคลือบ กระแสไฟฟ้าและอัตราไหลแก๊ส
ไนโตรเจนมีผลต่อโครงสร้างและลักษณะพื้นผิวของฟิล์มที่เคลือบได้ ค่าคงที่ทางแสงของฟิล์มบาง
ไทเทเนียมไดออกไซด์เจือไนโตรเจนที่ความยาวคลื่นแสงเท่ากับ 550 nm พบว่ามีดัชนีหักเห และสัมประสิทธิ์การดับสูญ เท่ากับ 2.5 และ 0.001-0.002 ตามลำดับ แถบพลังงาน (Eg) ของฟิล์มบางไทเทเนียมไดออกไซด์เจือไนโตรเจนพบว่ามีค่า 2 ช่วงคือ 3.20 eV (ของฟิล์มไทเทเนียมไดออกไซด์เฟสอนาเรส) และ 2.40 eV-2.60 eV (ของฟิล์มไทเทเนียมไดออกไซด์เจือไนโตรเจน) โดยฟิล์มบางไทเทเนียมไดออกไซด์เจนไนโตรเจนที่เคลือบได้ในงานวิจัยนี้สามารถแสดงสมบัติไฮโดรฟิลิกได้เมื่อสัมผัสแสงในช่วงตามองเห็น |
th_TH |
| dc.description.sponsorship |
ได้รับทุนสนับสนุนการวิจัยจากงบประมาณเงินรายได้ (เงินอุดหนุนจากรัฐบาล)
ประจำปีงบประมาณ 2555 |
en |
| dc.language.iso |
th |
th_TH |
| dc.publisher |
คณะวิทยาศาสตร์ มหาวิทยาลัยบูรพา |
th_TH |
| dc.subject |
ฟิล์มบาง |
th_TH |
| dc.subject |
ไฮโดรฟิลิก |
th_TH |
| dc.subject |
สาขาวิทยาศาสตร์กายภาพและคณิตศาสตร์ |
th_TH |
| dc.title |
การเตรียมฟิล์มบางนาโนของ TiOxNx สำหรับประยุกต์ในกระจกทำความสะอาดตัวเอง |
th_TH |
| dc.title.alternative |
Deposition of TiOxNy nano-Thin Film for Self Cleaning Glass Applications. |
en |
| dc.type |
งานวิจัย |
|
| dc.year |
2556 |
|
| dc.description.abstractalternative |
TiOxNy nano-thin film or nitrogen doped titanium dioxide (N-doped TiO2) thin films were deposited on glass slides and silicon wafers by reactive DC magnetron sputtering method.
The effect of deposition parameter such as N2 gas flow rate has been investigated. The properties of the as-deposited thin film such as crystal structure, surface morphology, thickness and transmittance were characterized by X-ray diffraction (XRD), Atomic Force Microscopy (AFM), and spectrophotometer, respectively, Optical constant and energy band gap of the as-deposited films were evaluated from transmission spectra. The results showed that the substrate-target distance, sputtering current and N2 gas flow rate were affected on the crystal structure and surface morphology of films. The optical constants of the N-doped TiO2 thin films namely, refractive index and extinction coefficient at wavelength 550 nm were 2.5 and 0.001-0.002, respectively. The energy band gap (Eg) of N-doped TiO2 thin films was found in 2 ranges, 3.20 eV (Aantase phase TiO2 thin film) and 2.40 eV-2.60 eV (N-doped TiO2 thin films). The as-deposited N-doped TiO2 thin films in this work showed hydrophilic property whe expose to the visible light. |
en |