Abstract:
งานวิจัยนี้มีวัตถุประสงค์ที่จะลดปัญหาการเกาะตัวกันและปรับปรุงสมบัติการกระจายตัวของอนุภาคนาโนซิงค์ออกไซด์ในพอลิเมอร์เมทริกซ์ โดยการกราฟต์เมทิล เมทาไครเลต บนผิวหน้าของนาโนซิงค์ออกไซด์ด้วยเทคนิคพอลิเมอไรเซซันแบบแรดิคัล ขั้นตอนแรกเตรียมพันธะคู่บนผิวนาโน-ซิงค์ออกไซด์ โดยการทำปฏิกิริยากับสารควบคู่ (y-methacryloxypropyl trimethoxysilane) หลังจากนั้นกราฟต์ด้วยเมทิล เมทาไครเลตมอนอเมอร์ โดยเทคนิคพอลิเมอไรเซชันแบบอิมัลชันนาโนคอมโพสิตที่เตรียมได้ถูกวิเคราะห์ด้วยเทคนิค FT-IR, TEM, XRD, TGA และการทดสอบประสิทธิภาพการต้านเชื้อแบคทีเรีย พบว่าสามารถกราฟต์อนุภาคคอมโพสิตด้วยพอลิ (เมทิลเมทาไครเลต) ผ่านพันธะของสารคู่ควบ ซึ่งยืนยันได้ด้วยเทคนิค FT-IR จากการศึกษาด้วยเทคนิค TEM และทดสอบการตกตะกอนพบว่าอนุภาคนาโนซิงค์ออกไซด์ที่ดัดแปลงผิวหน้าเกิดการเกาะตัวของอนุภาคในเมทริกซ์พอลิเมอร์น้อยลง สมบัติการกระจายตัวของอนุภาคในตัวทำละลายดีขึ้นผลจาก TGA เทอร์โมแกรมพบว่านาโนคอมโพสิตมีเสถียรภาพทางความร้อนดีกว่าพอลิ (เมทิลเมทาไครเลต) โฮโมพอลิเมอร์ และนาโนคอมโพสิตแสดงสมบัติการต้านเชื้อแบคทีเรีย Escherichia coli ที่ดี