ผลของปริมาณโครเมียมต่อโครงสร้างของฟิล์มบางไทเทเนียมโครเมียมไนไตรด์ ที่เตรียมด้วยวิธีรีแอคตีฟแมกนีตรอนโคสปัตเตอริง

อดิศร บูรณวงศ์

dc.contributor.author	อดิศร บูรณวงศ์
dc.contributor.other	มหาวิทยาลัยบูรพา. คณะวิทยาศาสตร์	th
dc.date.accessioned	2023-08-09T08:58:58Z
dc.date.available	2023-08-09T08:58:58Z
dc.date.issued	2561
dc.identifier.uri	https://buuir.buu.ac.th/xmlui/handle/1234567890/9292
dc.description	โครงการวิจัยประเภทงบประมาณเงินรายได้จากเงินอุดหนุนจากรัฐบาล (งบประมาณแผ่นดิน) ประจำปีงบประมาณ พ.ศ. 2560	th_TH
dc.description.abstract	ฟิล์มบางไทเทเนียมโครเมียมไนไตรด์ (TiCrN) เคลือบด้วยวิธีรีแอกทีฟดีซีแมกนีตรอนโคสปัตเตอริง เพื่อศึกษาผลของปริมาณโครเมียมต่อโครงสร้างของฟิล์มที่เคลือบได้ โดย โครงสร้างผลึก โครงสร้างจุลภาคลักษณะพื้นผิว ความหนาและองค์ประกอบทางเคมี ศึกษาด้วยเทคนิค XRD, FE-SEM และ EDX ตามลำดับ ผลการศึกษาพบว่าฟิล์มที่เคลือบได้เป็นสารละลายของแข็งของ (Ti,Cr)N โดยโครงสร้างของฟิล์มเปลี่ยนตามอัตราไหลแก๊สไนโตรเจนและปริมาณโครเมียม (1) กรณีแปรค่าอัตราไหลแก๊สไนโตรเจน ขนาดผลึกของฟิล์มมีค่าในช่วง 14.9 – 31.7 nm และค่าคงที่แลตทิซมีค่าในช่วง 4.133 - 4.197 Å ส่วนความหนามีค่าลดลงจาก 1230 nm เป็น 480 nm เมื่อเพิ่มอัตราไหลแก๊สไนโตรเจน สำหรับการวิเคราะห์ภาคตัดขวางแสดง พบว่าฟิล์มที่เคลือบได้มีโครงสร้างแบบคอลัมนาร์และมีลักษณะแน่นมากขึ้นตามอัตราไหลแก๊สไนโตรเจนองค์ประกอบทางเคมีในฟิล์มแปรค่าตามอัตราไหลแก๊สไนโตรเจน และ (2) กรณีแปรค่าปริมาณโครเมียมขนาดผลึกของฟิล์มมีค่าในช่วง 22.4 – 41.6 nm และค่าคงที่แลตทิซมีค่าในช่วง 4.136 - 4.223 Å ส่วนความหนามีค่าลดลงจาก 1689 nm เป็น 642 nm เมื่อเพิ่มปริมาณโครเมียม ภาคตัดขวางแสดงว่าฟิล์มที่เคลือบได้มีโครงสร้างแบบคอลัมนาร์และมีลักษณะแน่นมากขึ้นตามปริมาณโครเมียม ส่วนองค์ประกอบทางเคมีในฟิล์มแปรค่าตามปริมาณโครเมียม	th_TH
dc.description.sponsorship	สำนักงานคระกรรมการวิจัยแห่งชาติ	th_TH
dc.language.iso	th	th_TH
dc.publisher	คณะวิทยาศาสตร์ มหาวิทยาลัยบูรพา	th_TH
dc.subject	ฟิล์มไทเทเนียมโครเมียมไนไตรด์	th_TH
dc.title	ผลของปริมาณโครเมียมต่อโครงสร้างของฟิล์มบางไทเทเนียมโครเมียมไนไตรด์ ที่เตรียมด้วยวิธีรีแอคตีฟแมกนีตรอนโคสปัตเตอริง	th_TH
dc.title.alternative	Effect of Chromium Contents on Structure of TiCrN Thin Film Prepared by Reactive Magnetron Co-Sputtering Method	en
dc.type	Research	th_TH
dc.author.email	adisornb@buu.ac.th	th_TH
dc.year	2561	th_TH
dc.description.abstractalternative	Titanium chromium nitride (TiCrN) thin films were deposited by reactive DC magnetron co-sputtering method. The effect of the chromium contents on the as-deposited films’ structure was investigated. The crystal structure, microstructure, surface morphology, thickness and elemental composition were characterized by XRD, FE-SEM and EDX technique, respectively. The results showed that the as-deposited films were (Ti,Cr)N solid solution. The structure of the as-deposited films varied with the chromium contents. (1) In case of varied the N2 gas flow rate, the crystal size was in range of 14.9 – 31.7 nm, the lattice constant was in range of 4.133-4.197 Å. The thickness decreased from 1230 nm to 480 nm with increasing of the chromium contents. The cross section analysis showed compact columnar and dense morphology as increasing of the chromium contents. The elemental composition of the as-deposited films varied with the chromium contents. (2) In case of varied the chromium contents, the crystal size was in range of 22.4–41.6 nm, the lattice constant was in range of 4.136-4.223 Å. The thickness decreased from 1689 nm to 642 nm with increasing of the chromium contents. The cross section analysis showed compact columnar and dense morphology as increasing of the chromium contents. The elemental composition of the as-deposited films varied with the chromium contents.	en