dc.contributor.author |
สุรสิงห์ ไชยคุณ |
|
dc.contributor.author |
นิรันดร์ วิฑิตอนันต์ |
|
dc.contributor.author |
สกุล ศรีญาณลักษณ์ |
|
dc.contributor.author |
จักรพันธ์ ถาวรธิรา |
|
dc.contributor.other |
มหาวิทยาลัยบูรพา. คณะวิทยาศาสตร์ |
|
dc.date.accessioned |
2019-03-25T08:54:49Z |
|
dc.date.available |
2019-03-25T08:54:49Z |
|
dc.date.issued |
2541 |
|
dc.identifier.uri |
http://dspace.lib.buu.ac.th/xmlui/handle/1234567890/883 |
|
dc.description.abstract |
โครงการวิจัยนี้มีวัตถุประสงค์หลักเพื่อศึกษาการเตรียมฟิล์มบางโดยวิธีการสปัตเตอริงสำหรับสารเคลือบชนิดต่างๆซึ่งเป็นการต่อเนื่องจากปีแรก โดยเป็นการปรับปรุงระบบเคลือบฟิล์มบาง การทดสอบอัตราเคลือบและความสม่ำเสมอของระบบ ซึ่งมีผลการศึกษานี้คือได้ปรับปรุงระบบเคลือบเดิมซึ่งเป็นแบบ ดีซี แมกนีตรอน สปัตเตอริง มาเป็นแบบ ดีซี อันบาลานซ์ แมกนีตรอน สปัตเตอริง ซึ่งมีส่วนประกอบสำคัญคือ ระบบสุญญากาศ ภาชนะสุญญากาศ คาโทดและเป้าสารเคลือบ ระบบน้ำหล่อเย็น ระบบจ่ายไฟฟ้าและระบบป้อนแก๊ส ภาชนะสุญญากาศทำจากเหล็กกล้า สเตนเลสทรงกระบอกมีปริมาตรประมาณ 9.14 ลิตร คาโทดมีพื้นที่เป้าสารเคลือบแผ่นกลบขนาดเส้นผ่าศูนย์กลาง 7.6 เซนติเมตร พร้อมคาโทดชีลด์ พร้อมติดตั้งแม่เหล็กชนิด NdFeB ไว้ด้านหลังเป้าสารเคลือบเพื่อให้สนามแม่เหล็กมีลักษณะไม่สมมาตรจึงใช้แม่เหล็กวางทั้งแกนกลางและรอบนอกเป็นวงแหวน โดยสนามแม่เหล็กที่แกนกลางมีค่าประมาณ 1000 เกาส์ ส่วนบริเวณวงแหวนจะมีค่าประมาณ 490 เกาส์ ระบบน้ำหล่อเย็นใช้หล่อเย็นคาโทด เป้าสารเคลือบและส่วนบนของเพลทวาล์วของเครื่องสูบแพร่ไอระบบจ่ายไฟฟ้ากระแสตรงแรงสูง แบบฟูลเวฟ สามารถปรับความต่างศักย์ ช่วง 0-500 โวลต์ กระแสไฟฟ้าคงที่ ที่ 0-20 แอมป์ ระบบป้อนแก็สควบคุมด้วยวาล์วเปิด – ปิด และควบคุมปริมาณแก๊สที่เข้าสู่ระบบที่แผ่นปิดบนและมีท่อนำแก๊สต่อเข้ากับคาโทดซีลด์
จากการศึกษาการกระจายตัวของสารเคลือบของสารเคลือบของระบบเคลือบพบว่า มีลักษณะเป็นวงกลมโดยที่บริเวณกลางเป้าฟิล์มที่ได้จะหนาที่สุดและเบาบางลงตามแนวรัศมีโดยระยะห่างระหว่างเป้าสารเคลือบและวัสดุรองรับที่เหมาะสมที่สุด 12 เซนติเมตรจากเป้าสารเคลือบ พื้นที่ที่ให้ฟิล์มสม่ำเสมอประมาณ 4x4 เซนติเมตร สำหรับอัตราการเคลือบฟิล์มของระบบพบว่าทองแดงมีอัตราเคลือบสูงสุดคือ 0.047 ไมครอนต่อวินาที รองลงมาได้แก่อะลูมิเนียม ทองและไททาเนียมตามลำดับ
จากการศึกษาพบว่าเงื่อนไขที่ดีที่สุดสำหรับการเคลือบฟิล์มบางคือที่ระยะ 12 เซนติเมตร จากหน้าเป้าสารเคลือบ และใช้ความดันขณะเคลือบ 3x10-3 มิลลิบาร์ โดยความต่างศักย์ที่ใช้อยู่ในช่วง 350-550 โวลต์ และเมื่อทดลองเคลือบฟิล์มบางด้วยเป้าต่างกัน 4 ชนิด คือ อะลูมิเนียม ทอง ไททาเนียมและทองแดง พบว่าจะมีสีคาโทดโกลว์ของเป้าสารเคลือบต่างกัน โดยอะลูมิเนียมจะมีสีฟ้าอมเทา ทองจะมีสีฟ้าอมส้ม ไททาเนียมจะมีสีฟ้าขาว ส่วนของทองแดงมีสีฟ้าอมเขียว ส่วนฟิล์มบางที่ได้พบมีสีแวววาวของเป้าสารเคลือบ เมื่อทดลองการยึดติดของฟิล์มบางโดยการเช็ดถูด้วยนิ้วมือ ขูดด้วยเล็บพบว่าไม่สามารถทำให้ฟิล์มที่ได้หลุดและเมื่อปล่อยทิ้งไว้ในอากาศพบว่าจะมีการเกิดออไซด์เฉพาะฟิล์มบางทองแดงเท่านั้นส่วนฟิล์มบางอะลูมิเนียม ทอง และไททาเนียมจะยังคงสภาพเหมือนเดิม |
th_TH |
dc.description.sponsorship |
โครงการวิจัยที่ได้รับการสนับสนุนทุนวิจัยจากหมวดเงินอุดหนุนการวิจัยของมหาวิทยาลัยบูรพา ปีงบประมาณ 2541 |
en |
dc.language.iso |
th |
th_TH |
dc.publisher |
คณะวิทยาศาสตร์ มหาวิทยาลัยบูรพา |
th_TH |
dc.subject |
การชุบเคลือบผิวด้วยไฟฟ้า |
th_TH |
dc.subject |
การชุบเคลือบผิวโลหะ |
th_TH |
dc.subject |
งานโลหะ |
th_TH |
dc.subject |
สาขาวิทยาศาสตร์กายภาพและคณิตศาสตร์ |
th_TH |
dc.title |
การศึกษาสภาวะที่เหมาะสมสำหรับเคลือบสารต่าง ๆ ด้วยวิธีสปัตเตอริง |
th_TH |
dc.title.alternative |
Study of the proper state for material coating by Sputtering Method |
th_TH |
dc.type |
Research |
th_TH |
dc.year |
2541 |
|