ผลของอัตราไหลแก๊สไนโตรเจนต่อโครงสร้างของฟิล์มบางไทเทเนียมโครเมียมไนไตรด์ที่เตรียมด้วยวิธีรีแอคทีฟสปัตเตอริงจากเป้าสารเคลือบแบบโมเสค

สุรสิงห์ ไชยคุณ; นิรันดร์ วิทิตอนันต์

dc.contributor.author	สุรสิงห์ ไชยคุณ
dc.contributor.author	นิรันดร์ วิทิตอนันต์
dc.contributor.other	มหาวิทยาลัยบูรพา. คณะวิทยาศาสตร์
dc.date.accessioned	2022-03-07T01:36:30Z
dc.date.available	2022-03-07T01:36:30Z
dc.date.issued	2559
dc.identifier.uri	http://dspace.lib.buu.ac.th/xmlui/handle/1234567890/4304
dc.description	โครงการวิจัยประเภทงบประมาณเงินรายได้จากเงินอุดหนุนจากรัฐบาล (งบประมาณแผ่นดิน) ประจำปีงบประมาณ พ.ศ. 2559	th_TH
dc.description.abstract	ฟิล์มบางไทเทเนนียมโครเมียมไนไตรด์ (TiCrN) เคลือบด้วยวิธีดีซีรีแอคทีฟแมกนีตรอนสปัตเตอริงจาก เป้าสารเคลือบแบบโมเสค เพื่อศึกษาผลของอัตราไหลแก๊สไนโตรเจนและระยะห่างระหว่างวัสดุรองรับกับ เป้าสารเคลือบต่อโครงสร้างของฟิล์ม โดยลักษณะเฉพาะของฟิล์มที่เคลือบได้ศึกษาด้วยเทคนิค XRD, AFM, EDS และ FE-SEM ผลการศึกษาพบว่า ฟิล์มที่เคลือบได้เป็นสารละลายของแข็งของ (Ti,Cr)N โครงสร้างของฟิล์มแปรตามอัตราไหลแก๊สไนโตรเจนและระยะห่างระหว่างวัสดุรองรับกับเป้าสารเคลือบ (1) สาหรับกรณีแปรค่าอัตราไหลแก๊สไนโตรเจน พบว่าขนาดผลึกมีค่าในช่วง 41.4 – 69.6 nm และค่าคงที่ แลตทิซมีค่าในช่วง 4.169 – 4.179 Å. ความหนาของฟิล์มมีค่าลดลงจาก 336 nm เป็น 283 nm เมื่อเพิ่ม อัตราไหลแก๊สไนโตรเจน ฟิล์มที่เคลือบได้มีไทเทเนียม โครเมียมและไนโตรเจนเป็นองค์ประกอบใน อัตราส่วนต่าง ๆ แปรตามอัตราไหลแก๊สไนโตรเจน โครงสร้างจุลภาคของฟิล์มเป็นแบบคอลัมนาร์และมี ลักษณะแน่นขึ้นเมื่อเพิ่มอัตราไหลแก๊สไนโตรเจน และ (2) สาหรับกรณีแปรค่าระยะห่างระหว่างวัสดุรองรับ กับเป้าสารเคลือบ พบว่าขนาดผลึกมีค่าในช่วง 35.7 – 65.7 nm ส่วนค่าคงที่แลตทิซมีค่าในช่วง 4.169 – 4.229 Å. ความหนาของฟิล์มมีค่าลดลงจาก 500 nm เป็น 292 nm เมื่อเพิ่มแปรค่าระยะห่างระหว่างวัสดุ รองรับกับเป้าสารเคลือบ ฟิล์มที่เคลือบได้มีไทเทเนียม โครเมียมและไนโตรเจนเป็นองค์ประกอบใน อัตราส่วนต่าง ๆ แปรตามระยะห่างระหว่างวัสดุรองรับกับเป้าสารเคลือบ โครงสร้างจุลภาคของฟิล์มเป็น แบบคอลัมนาร์และมีลักษณะแน่นขึ้นเมื่อเพิ่มระยะห่างระหว่างวัสดุรองรับกับเป้าสารเคลือบ	th_TH
dc.description.sponsorship	สำนักงานคณะกรรมการวิจัยแห่งชาติ	th_TH
dc.language.iso	th	th_TH
dc.publisher	คณะวิทยาศาสตร์ มหาวิทยาลัยบูรพา	th_TH
dc.subject	ฟิล์มไทเทเนียมโครเมียมไนไตรด์	th_TH
dc.subject	สาขาวิทยาศาสตร์กายภาพและคณิตศาสตร์	th_TH
dc.title	ผลของอัตราไหลแก๊สไนโตรเจนต่อโครงสร้างของฟิล์มบางไทเทเนียมโครเมียมไนไตรด์ที่เตรียมด้วยวิธีรีแอคทีฟสปัตเตอริงจากเป้าสารเคลือบแบบโมเสค	th_TH
dc.title.alternative	Effect of nitrogen gas flow rate on structure of Titanium Chromiun Nitride thin film prepared by reactive sputtering from Mosaic targets	th_TH
dc.type	Research	th_TH
dc.author.email	surasing@buu.ac.th	th_TH
dc.author.email	nirun@buu.ac.th	th_TH
dc.year	2559	th_TH
dc.description.abstractalternative	Titanium chromium nitride (TiCrN) thin films were deposited by reactive DC magnetron sputtering method from mosaic target. The effect of the N2 gas flow rate and the substrate-to-target distance on the films’ structure was investigated. The as-deposited films were characterized by XRD, AFM, EDS and FE-SEM. The results showed that, all the as-deposited films were formed as a (Ti,Cr)N solid solution. The structure of the as-deposited films varied with the N2 gas flow rates and the substrate-to-target distances. (1) In case of varied the N2 gas flow rate, the crystal size of all plane were in the range of 41.4 – 69.6 nm. The lattice constants were in the range of 4.169 – 4.179 Å. The thickness decreased from 336 nm to 283nm with increasing the N2 gas flow rate. The chemical composition, Ti Cr and N contents, in the as-deposited films were varied with the N2 gas flow rate. The as-deposited films showed compact columnar and dense morphology as a result of increasing the N2 gas flow rate. (2) In case of varied the substrate-to-target distances, the crystal size of all plane were in the range of 35.7 – 65.7 nm. The lattice constants were in the range of 4.169 – 4.229 Å. The thickness decreased from 500 nm to 292nm with increasing the substrate-to-target distances The chemical composition, Ti Cr and N contents, in the as-deposited films were varied with the substrate-to-target distances. The as-deposited films showed compact columnar and dense morphology as a result of increasing the substrate-to-target distances.	th_TH