dc.contributor.author |
อรรถพล เชยศุภเกตุ |
|
dc.contributor.author |
ธนัสถา รัตนะ |
|
dc.contributor.other |
มหาวิทยาลัยบูรพา. คณะวิทยาศาสตร์ |
|
dc.date.accessioned |
2020-09-22T02:04:21Z |
|
dc.date.available |
2020-09-22T02:04:21Z |
|
dc.date.issued |
2561 |
|
dc.identifier.uri |
http://dspace.lib.buu.ac.th/xmlui/handle/1234567890/3962 |
|
dc.description |
โครงการวิจัยประเภทงบประมาณเงินรายได้ (เงินอุดหนุนจากรัฐบาล) ประจำปีงบประมาณ พ.ศ. 2561 |
th_TH |
dc.description.abstract |
ฟิล์มบางไทเทเนียมอลูมิเนียมอัลลอยด์เคลือบบนแผ่นซิลิกอนและแผ่นสแตนเลสสตีลด้วยวิธีสปัตเตอริง โดยศึกษาผลของกระแสไฟฟ้าให้กับเป้าสารเคลือบไทเทเนียมและอลูมิเนียม ความดันรวมขณะเคลือบ และระยะห่างจากเป้าสารเคลือบถึงวัสดุรองรับ ที่มีต่อสมบัติทางกายภาพของฟิล์มที่เคลือบได้ด้วย EDX, XRD, SEM, AFM, การวัดมุมสัมผัส และโพเทนชิโอสแตท จากผลการทดลอง
เมื่ออัตราส่วนของกระแสไฟฟ้าที่จ่ายให้กับเป้าสารเคลือบอลูมิเนียมต่อไทเทเนียมเพิ่มขึ้นจาก 0.375 ถึง 1.5 พบว่าอัตราส่วนของปริมาณธาตุอลูมิเนียมต่อไทเทเนียมในฟิล์มเพิ่มขึ้น ในขณะที่เมื่ออัตราส่วนของกระแสไฟฟ้าที่จ่ายให้กับเป้าสารเคลือบอลูมิเนียมต่อไทเทเนียมเท่ากับ 1.0 และ 1.5 ฟิล์มที่เคลือบได้มีโครงสร้างผลึกแบบเตตระโกนอลซึ่งเป็นเฟส -TiAl โดยที่อัตราส่วนของ
กระแสไฟฟ้าที่จ่ายให้กับเป้าสารเคลือบอลูมิเนียมต่อไทเทเนียมเท่ากับ 1.5 ฟิล์มที่เคลือบได้มีความเป็นผลึก ความหยาบผิว ความไม่ชอบน้ำ และความต้านทานต่อการกัดกร่อนมากที่สุด เมื่อความดันรวมขณะเคลือบเพิ่มขึ้นจาก 3.0x10-3 mbar ถึง 6.0x10-3 mbar พบว่าฟิล์มที่เคลือบได้มีขนาดผลึกความหยาบผิว ความหนา และความไม่ชอบน้ำลดลง โดยฟิล์มเคลือบได้ที่ความดันรวมขณะเคลือบเท่ากับ 3.0x10-3 mbar มีอัตราการกัดกร่อนน้อยที่สุด เมื่อระยะห่างจากเป้าสารเคลือบถึงวัสดุรองรับเพิ่มขึ้นจาก 12 cm ถึง 16 cm พบว่าอัตราส่วนของปริมาณธาตุอลูมิเนียมต่อไทเทเนียมในฟิล์ม ความเป็นผลึก ขนาดผลึก ขนาดเกรน ความหนา และอัตราการกัดกร่อนของฟิล์มที่เคลือบได้มีค่าลดลง |
th_TH |
dc.description.sponsorship |
สำนักงานคณะกรรมการวิจัยแห่งชาติ |
th_TH |
dc.language.iso |
th |
th_TH |
dc.publisher |
คณะวิทยาศาสตร์ มหาวิทยาลัยบูรพา |
th_TH |
dc.subject |
สปัตเตอริง (ฟิสิกส์) |
th_TH |
dc.subject |
สาขาวิทยาศาสตร์กายภาพและคณิตศาสตร์ |
th_TH |
dc.title |
การเคลือบและปรับปรุงผิวฟิล์มบางไทเทเนียมอลูมิเนียมอัลลอยด์ด้วยวิธีสปัตเตอริงสำหรับงานป้องกันการกัดกร่อน |
th_TH |
dc.title.alternative |
The Deposition and Surface Modification of TiAl Alloy Thin Films by Sputtering Method for Anticorrosion Application |
en |
dc.type |
Research |
th_TH |
dc.author.email |
c_attapol@hotmail.com |
th_TH |
dc.author.email |
tanattha@buu.ac.th |
th_TH |
dc.year |
2561 |
th_TH |
dc.description.abstractalternative |
Titanium aluminium (TiAl) alloy thin films were deposited on silicon wafer and stainless steel substrate by sputtering method. The effects of Ti and Al target currents, total pressure
and target-substrate distance on physical properties of the deposited films were investigated
using EDX, XRD, SEM, AFM, contact angle measurement and Potentiostat. In the experiment,
when the ratio of Al/Ti target currents increased from 0.375 to 1.5, the Al/Ti ratio of the
deposited films increased. When the ratio of Al/Ti target currents were 1.0 and 1.5, the
deposited film structure exhibited -TiAl phase with tetragonal crystal structure. Moreover, the ratio of Al/Ti target current of 1.5 provided the deposited film with the highest crystallinity, surface roughness, hydrophobicity, and corrosion resistance. When the total pressure increased from 3.0×10-3 mbar to 6.0×10-3 mbar, the results revealed that the crystal size, surface roughness, thickness and hydrophobicity of deposited films were decreased. The deposited film with the total pressure of 3.0×10-3 mbar had the least corrosion rate. When the target-substrate distance increased from 12 cm to 16 cm, the results showed that the Al/Ti ratio, crystallinity, crystal size, grain size, thickness and corrosion rate of deposited film were decreased. |
en |