dc.contributor.author |
อดิศร บูรณวงศ์ |
th |
dc.contributor.author |
สุรสิงห์ ไชยคุณ |
th |
dc.contributor.author |
นิรันดร์ วิทิตอนันต์ |
th |
dc.contributor.other |
มหาวิทยาลัยบูรพา. คณะวิทยาศาสตร์ |
|
dc.date.accessioned |
2019-03-25T09:09:52Z |
|
dc.date.available |
2019-03-25T09:09:52Z |
|
dc.date.issued |
2558 |
|
dc.identifier.uri |
http://dspace.lib.buu.ac.th/xmlui/handle/1234567890/1837 |
|
dc.description.abstract |
ฟิล์มบางโครเมียมอะลูมิเนียมไนไตรด์ (CrAlN) เคลือบบนกระจกสไลด์และแผ่นซิลิกอนด้วยวิธีดีซีรีแอคทีฟแมกนีตรอนโคสปัตเตอริง โดยใช้โครเมียมและอะลูมิเนียมเป็นเป้าสารเคลือบ เพื่อศึกษาผลของอัตราไหลแก๊สไนโตรเจนและกระแสสปัตเตอริงของเป้าอะลูมิเนียมต่อโครงสร้างของฟิล์ม ทั้งนี้ลักษณะเฉพาะของฟิล์มที่เคลือบได้ศึกษาด้วยเทคนิค XRD, AFM, EDS และ FE-SEM ผลการศึกษาพบว่า ฟิล์มที่เคลือบได้เป็นสารละลายของแข็งของ (Cr,Al)N ระนาบ (111), (200) และ (220) โครงสร้างของฟิล์มแปรตามอัตราไหลแก๊สไนโตรเจนและกระแสสปัตเตอริงของเป้าอะลูมิเนียม (1) สาหรับกรณีแปรค่าอัตราไหลแก๊สไนโตรเจนขนาดผลึกและค่าคงที่แลตทิซมีค่าอยู่ในช่วง 17.7 – 33.5 nm และ 4.139 - 4.162 Å ตามลาดับ ความหนาและความหยาบผิวของฟิล์มมีค่าลดลงจาก 400 nm เป็น 244 nm และ 2.8 nm เป็น 1.4 nm เมื่อเพิ่มอัตราไหลแก๊สไนโตรเจน ผลการวิเคราะห์ภาคตัดขวางแสดงให้เห็นว่าฟิล์มมีโครงสร้างแบบคอลัมนาร์ และฟิล์มที่เคลือบได้มีโครเมียม อะลูมิเนียมและไนโตรเจนเป็นองค์ประกอบในอัตราส่วนต่าง ๆ แปรตามอัตราไหลแก๊สไนโตรเจน โดยความแข็งของฟิล์มบางที่เคลือบได้มีค่าอยู่ในช่วง 14.1 – 60.3 GPa และ (2) สาหรับกรณีแปรค่ากระแสสปัตเตอริงของเป้าอะลูมิเนียม ขนาดผลึกและค่าคงที่แลตทิซ มีค่าเท่ากับ 39.1 nm และ 3.987 Å ตามลาดับ ความหนาและความหยาบผิวของฟิล์มมีค่าเพิ่มขึ้น จาก 347 nm เป็น 1047 nm และ 2.8 nm เป็น 3.4 nm ตามลาดับเมื่อเพิ่มค่ากระแสสปัตเตอริงของเป้าอะลูมิเนียม ผลการวิเคราะห์ภาคตัดขวางแสดงให้เห็นว่าฟิล์มมีโครงสร้างแบบคอลัมนาร์ และฟิล์มที่เคลือบได้มีโครเมียม อะลูมิเนียมและไนโตรเจนเป็นองค์ประกอบในอัตราส่วนต่าง ๆ แปรตามค่ากระแสสปัตเตอริงของเป้าอะลูมิเนียม ส่วนความแข็งของฟิล์มบางที่เคลือบได้มีค่าอยู่ในช่วง 45.9 – 70.5 GPa |
th_TH |
dc.description.sponsorship |
โครงการวิจัยประเภทงบประมาณเงินรายได้จากเงินอุดหนุนจากรัฐบาล (งบประมาณแผ่นดิน) ประจาปีงบประมาณ พ.ศ. 2558 |
en |
dc.language.iso |
th |
th_TH |
dc.publisher |
คณะวิทยาศาสตร์ มหาวิทยาลัยบูรพา |
th_TH |
dc.subject |
กระแสสปัตเตอริง |
th_TH |
dc.subject |
ดีซีรีแอคทีฟแมกนีตรอนโคสปัตเตอริง |
th_TH |
dc.subject |
ฟิล์มบาง |
th_TH |
dc.subject |
โครเนียมอะลูมิเนียมไนไตรด์ |
th_TH |
dc.subject |
อัตราไหลแก๊สไนโตรเจน |
th_TH |
dc.subject |
สาขาวิทยาศาสตร์กายภาพและคณิตศาสตร์ |
th_TH |
dc.title |
การเตรียมชั้นเคลือบแข็งของโครเมียมอะลูมิเนียมไนไตรด์ ด้วยวิธีรีแอคทีฟแมกนีตรอนโคสปัตเตอริง |
th_TH |
dc.title.alternative |
Preparation of chromium aluminium nitride hard coating by reactive magnetron co-sputtering method |
th_TH |
dc.type |
Research |
th_TH |
dc.year |
2558 |
|
dc.description.abstractalternative |
Chromium aluminium nitride (CrAlN) thin films were deposited by DC reactive magnetron co-sputtering on glass slide and silicon. Cr and Al metals were used as sputtering targets.
The effect of the N2 gas flow rate and the aluminium sputtering current on the films’ structure was investigated. The as-deposited films were characterized by XRD, AFM, EDS and FE-SEM. The results showed that the as-deposited films were (Cr,Al)N solid solution with (111), (200) and (220) planes. The structure of the as-deposited films varied with the N2 gas flow rates and the aluminium sputtering current. (1) In case of varied N2 gas flow rate, crystal size and lattice constant was in range of 17.7 – 33.5 nm and 4.139 - 4.162 Å, respectively. The thickness and roughness decreased from 400 nm to 244 nm and 2.8 nm to 1.4 nm, respectively, with increasing N2 gas flow rates. The cross section analysis showed compact columnar. The as-deposited films compose of chromium, aluminium and nitrogen in difference ratio, which varied with the N2 gas flow rate. . The film hardness was in range of 14.1 - 60.3 GPa. (2) In case of varied aluminium sputtering current, crystal size and lattice constant was 39.1 nm and 3.987 Å, respectively. The thickness and roughness increased from 347 nm to 1047 nm and 2.8 nm to 3.4 nm, respectively, with increasing aluminium sputtering current. The cross section analysis showed compact columnar and dense morphology as a result of increasing aluminium sputtering current. The as-deposited films compose of chromium, aluminium and nitrogen in difference ratio, which varied with the aluminium sputtering current. The film hardness was in range of 45.9 – 70.5 GPa. |
en |