ผลของพารามิเตอร์การเคลือบต่อโครงสร้างของฟิล์มบางไทเทเนียมอะลูมิเนียมไนไตรด์ที่เคลือบด้วยวิธีรีแอคตีฟโคสปัตเตอริง

พัชรี ภักดีเสน่หา

dc.contributor.advisor	นิรันดร์ วิทิตอนันต์
dc.contributor.author	พัชรี ภักดีเสน่หา
dc.contributor.other	มหาวิทยาลัยบูรพา. คณะวิทยาศาสตร์
dc.date.accessioned	2024-02-07T09:03:56Z
dc.date.available	2024-02-07T09:03:56Z
dc.date.issued	2557
dc.identifier.uri	https://buuir.buu.ac.th/xmlui/handle/1234567890/17071
dc.description	วิทยานิพนธ์ (วท.ม.) -- มหาวิทยาลัยบูรพา, 2557
dc.description.abstract
dc.language.iso	th
dc.publisher	คณะวิทยาศาสตร์ มหาวิทยาลัยบูรพา
dc.rights	มหาวิทยาลัยบูรพา
dc.subject	Science and Technology
dc.subject	สปัตเตอริง (ฟิสิกส์)?'
dc.subject	ฟิล์มบาง -- พื้นผิว
dc.subject	กระจก -- พื้นผิว
dc.subject	มหาวิทยาลัยบูรพา -- สาขาวิชาฟิสิกส์
dc.subject	ไททาเนียมอะลูมิเนียมไนไตรด์
dc.title	ผลของพารามิเตอร์การเคลือบต่อโครงสร้างของฟิล์มบางไทเทเนียมอะลูมิเนียมไนไตรด์ที่เคลือบด้วยวิธีรีแอคตีฟโคสปัตเตอริง
dc.title.alternative	Effect of deposition parameters on structure of Tiain thin films deposited by reactive co-sputtering method
dc.type	วิทยานิพนธ์/ Thesis
dc.description.abstractalternative
dc.degree.level	ปริญญาโท
dc.degree.discipline	ฟิสิกส์
dc.degree.name	วิทยาศาสตรมหาบัณฑิต
dc.degree.grantor	มหาวิทยาลัยบูรพา