| dc.contributor.author |
ธนัสถา รัตนะ |
th |
| dc.contributor.author |
อรรถพล เชยศุภเกตุ |
th |
| dc.contributor.author |
นิรันดร์ วิทิตอนันต์ |
th |
| dc.contributor.author |
สุรสิงห์ ไชยคุณ |
th |
| dc.contributor.other |
มหาวิทยาลัยบูรพา. คณะวิทยาศาสตร์ |
|
| dc.date.accessioned |
2019-03-25T09:07:03Z |
|
| dc.date.available |
2019-03-25T09:07:03Z |
|
| dc.date.issued |
2557 |
|
| dc.identifier.uri |
http://dspace.lib.buu.ac.th/xmlui/handle/1234567890/1416 |
|
| dc.description.abstract |
วัตถุประสงค์ของงานวิจัยนี้คือเพื่อ 1) ศึกษาผลของอัตราไฟลแก๊สไนโตรเจนต่อโครงสร้างของฟิล์ม และ 2) ศึกษาผลของอุณหภูมิอบชุบต่อโครงสร้างจุลภาคและสมบัติทางแสงของฟิล์ม ในกรณีการเคลือบฟิล์มไทเทเนียมไนไตรด์ พบว่า สีของฟิล์มเปลี่ยนจากเหลืองเป็นน้ำตาลตามอัตราไหลของแก๊สไนโตรเจนจากผล XRD พบว่ามีโครงสรา้งผลึกแบบ fcc ขนาดผลึกมีค่าในช่วง 36.8-41.2 nm ผลจาก AFM พบว่าเมื่ออัตราไหลแก๊สไนโตรเจนเพิ่มขึ้น มีการรวมตัวใหญ่ขึ้นโดยความหยาบผิว มีค่าเพิ่มขึ้นจาก 6.1 nm เป็น 19.5 ขณะที่ความหนาฟิล์ม มีค่าลดลงจาก 1.22 um เป็น 0.85 um ผลจาก FE-SEM พบว่า เมื่ออัตราไหลแก๊สไนโตรเจนเพิ่มขึ้นเกรนเริ่มใหญ่ขึ้นโดยมีช่องว่างบางส่วน ฟิล์มที่เคลือบได้มีโครงสรา้งแบบคอลัมนาร์ที่โครงสรา้งแบบ T สำหรับกรณีผลของอุณหภูมิอบชุบ พบว่า ฟิล์มที่เคลือบได้มีโครงสรา้งเปลี่ยนไปเป็นไทเทเนียมไดออกไซด์เฟสรูไทล์ ที่อุณหภูมิสุงกว่า 500 'C และพบโครงสร้างที่มีลักษณะเป็นรูกลมเมื่ออุณหภูมิอบชุบประมาณ 600 'C และเพิ่มขึ้นเมื่ออุณหภูมิอบชุบสูงขึ้น นอกจากนี้ยังพบว่าสมบัติทางแสงของฟิล์มที่เคลือบได้ขึ้นกับอุณหภูมิอบชุบ |
th_TH |
| dc.description.sponsorship |
ได้รับทุนสนับสนุนจากการวิจัยจาก งบประมาณเงินรายได้ (เงินอุดหนุนจากรัฐบาล) ประจำปีงบประมาณ 2556 |
en |
| dc.language.iso |
th |
th_TH |
| dc.publisher |
คณะวิทยาศาสตร์ มหาวิทยาลัยบูรพา |
th_TH |
| dc.subject |
ฟิล์มบาง |
th_TH |
| dc.subject |
สาขาวิทยาศาสตร์กายภาพและคณิตศาสตร์ |
th_TH |
| dc.subject |
ไทเทเนียมไนไตรด์ |
th_TH |
| dc.title |
ผลการอบชุบทางความร้อนต่อสมบัติทางกายภาพของฟิล์มบางไทเทเนียมไนไตรด์ที่เคลือบด้วยเทคนิครีแอกทีฟแมกนีตรอนสปัตเตอริง |
th_TH |
| dc.title.alternative |
Effect of heat treatment on physical properties of titanium nitride thin film deposited by reactive magnetron sputtering technique |
|
| dc.type |
Research |
|
| dc.year |
2557 |
|
| dc.description.abstractalternative |
The aim of this research work was to investigate of 1) effect nitrogen gas flow rates on the structure of films and 2) effect of annealing temperature on the microstructural and optical properties of films. In case of deposit TiN films, the results show that the films colors altered from yellow to dark brown by varying the nitrogen gas flow rates. The polycrystalline planes of face center cubic (fcc) TiN structure evolution were obtained from XRD results. The crystal size was in the range of 36.8-41.2 nm. The AFM scans revealed that the grain aggregations were exhibited at high nitrogen gas flow rates with roughness increased from 6.1 nm to 19.5 nm whereas thickness decreased form 1.22 um to 0.85 um. The FE-SEM results showed that with increased of the nitrogen gas flow rates, the grain refinement with void across the film surface were investigated. The as-deposited films showed columnar microstructure corresponding to Zone Tstructure. In case of annealing temperatures the results showthat the presence of the rutilt TiO2 phase for the samples annealed above 500 'C Many hollow-spherical structures appeared on the surface of films annealed at about 600 'C and the hollow-spherical structures occurred increasingly as a function of annealing temperatures. In addition, the optical properties of thin films depended strongly on annealing temperature |
en |