กรุณาใช้ตัวระบุนี้เพื่ออ้างอิงหรือเชื่อมต่อรายการนี้: https://buuir.buu.ac.th/xmlui/handle/1234567890/883
ระเบียนเมทาดาทาแบบเต็ม
ฟิลด์ DC ค่าภาษา
dc.contributor.authorสุรสิงห์ ไชยคุณ
dc.contributor.authorนิรันดร์ วิฑิตอนันต์
dc.contributor.authorสกุล ศรีญาณลักษณ์
dc.contributor.authorจักรพันธ์ ถาวรธิรา
dc.contributor.otherมหาวิทยาลัยบูรพา. คณะวิทยาศาสตร์
dc.date.accessioned2019-03-25T08:54:49Z
dc.date.available2019-03-25T08:54:49Z
dc.date.issued2541
dc.identifier.urihttp://dspace.lib.buu.ac.th/xmlui/handle/1234567890/883
dc.description.abstractโครงการวิจัยนี้มีวัตถุประสงค์หลักเพื่อศึกษาการเตรียมฟิล์มบางโดยวิธีการสปัตเตอริงสำหรับสารเคลือบชนิดต่างๆซึ่งเป็นการต่อเนื่องจากปีแรก โดยเป็นการปรับปรุงระบบเคลือบฟิล์มบาง การทดสอบอัตราเคลือบและความสม่ำเสมอของระบบ ซึ่งมีผลการศึกษานี้คือได้ปรับปรุงระบบเคลือบเดิมซึ่งเป็นแบบ ดีซี แมกนีตรอน สปัตเตอริง มาเป็นแบบ ดีซี อันบาลานซ์ แมกนีตรอน สปัตเตอริง ซึ่งมีส่วนประกอบสำคัญคือ ระบบสุญญากาศ ภาชนะสุญญากาศ คาโทดและเป้าสารเคลือบ ระบบน้ำหล่อเย็น ระบบจ่ายไฟฟ้าและระบบป้อนแก๊ส ภาชนะสุญญากาศทำจากเหล็กกล้า สเตนเลสทรงกระบอกมีปริมาตรประมาณ 9.14 ลิตร คาโทดมีพื้นที่เป้าสารเคลือบแผ่นกลบขนาดเส้นผ่าศูนย์กลาง 7.6 เซนติเมตร พร้อมคาโทดชีลด์ พร้อมติดตั้งแม่เหล็กชนิด NdFeB ไว้ด้านหลังเป้าสารเคลือบเพื่อให้สนามแม่เหล็กมีลักษณะไม่สมมาตรจึงใช้แม่เหล็กวางทั้งแกนกลางและรอบนอกเป็นวงแหวน โดยสนามแม่เหล็กที่แกนกลางมีค่าประมาณ 1000 เกาส์ ส่วนบริเวณวงแหวนจะมีค่าประมาณ 490 เกาส์ ระบบน้ำหล่อเย็นใช้หล่อเย็นคาโทด เป้าสารเคลือบและส่วนบนของเพลทวาล์วของเครื่องสูบแพร่ไอระบบจ่ายไฟฟ้ากระแสตรงแรงสูง แบบฟูลเวฟ สามารถปรับความต่างศักย์ ช่วง 0-500 โวลต์ กระแสไฟฟ้าคงที่ ที่ 0-20 แอมป์ ระบบป้อนแก็สควบคุมด้วยวาล์วเปิด – ปิด และควบคุมปริมาณแก๊สที่เข้าสู่ระบบที่แผ่นปิดบนและมีท่อนำแก๊สต่อเข้ากับคาโทดซีลด์ จากการศึกษาการกระจายตัวของสารเคลือบของสารเคลือบของระบบเคลือบพบว่า มีลักษณะเป็นวงกลมโดยที่บริเวณกลางเป้าฟิล์มที่ได้จะหนาที่สุดและเบาบางลงตามแนวรัศมีโดยระยะห่างระหว่างเป้าสารเคลือบและวัสดุรองรับที่เหมาะสมที่สุด 12 เซนติเมตรจากเป้าสารเคลือบ พื้นที่ที่ให้ฟิล์มสม่ำเสมอประมาณ 4x4 เซนติเมตร สำหรับอัตราการเคลือบฟิล์มของระบบพบว่าทองแดงมีอัตราเคลือบสูงสุดคือ 0.047 ไมครอนต่อวินาที รองลงมาได้แก่อะลูมิเนียม ทองและไททาเนียมตามลำดับ จากการศึกษาพบว่าเงื่อนไขที่ดีที่สุดสำหรับการเคลือบฟิล์มบางคือที่ระยะ 12 เซนติเมตร จากหน้าเป้าสารเคลือบ และใช้ความดันขณะเคลือบ 3x10-3 มิลลิบาร์ โดยความต่างศักย์ที่ใช้อยู่ในช่วง 350-550 โวลต์ และเมื่อทดลองเคลือบฟิล์มบางด้วยเป้าต่างกัน 4 ชนิด คือ อะลูมิเนียม ทอง ไททาเนียมและทองแดง พบว่าจะมีสีคาโทดโกลว์ของเป้าสารเคลือบต่างกัน โดยอะลูมิเนียมจะมีสีฟ้าอมเทา ทองจะมีสีฟ้าอมส้ม ไททาเนียมจะมีสีฟ้าขาว ส่วนของทองแดงมีสีฟ้าอมเขียว ส่วนฟิล์มบางที่ได้พบมีสีแวววาวของเป้าสารเคลือบ เมื่อทดลองการยึดติดของฟิล์มบางโดยการเช็ดถูด้วยนิ้วมือ ขูดด้วยเล็บพบว่าไม่สามารถทำให้ฟิล์มที่ได้หลุดและเมื่อปล่อยทิ้งไว้ในอากาศพบว่าจะมีการเกิดออไซด์เฉพาะฟิล์มบางทองแดงเท่านั้นส่วนฟิล์มบางอะลูมิเนียม ทอง และไททาเนียมจะยังคงสภาพเหมือนเดิมth_TH
dc.description.sponsorshipโครงการวิจัยที่ได้รับการสนับสนุนทุนวิจัยจากหมวดเงินอุดหนุนการวิจัยของมหาวิทยาลัยบูรพา ปีงบประมาณ 2541en
dc.language.isothth_TH
dc.publisherคณะวิทยาศาสตร์ มหาวิทยาลัยบูรพาth_TH
dc.subjectการชุบเคลือบผิวด้วยไฟฟ้าth_TH
dc.subjectการชุบเคลือบผิวโลหะth_TH
dc.subjectงานโลหะth_TH
dc.subjectสาขาวิทยาศาสตร์กายภาพและคณิตศาสตร์th_TH
dc.titleการศึกษาสภาวะที่เหมาะสมสำหรับเคลือบสารต่าง ๆ ด้วยวิธีสปัตเตอริงth_TH
dc.title.alternativeStudy of the proper state for material coating by Sputtering Methodth_TH
dc.typeResearchth_TH
dc.year2541
ปรากฏในกลุ่มข้อมูล:รายงานการวิจัย (Research Reports)

แฟ้มในรายการข้อมูลนี้:
แฟ้ม ขนาดรูปแบบ 
2541_002.pdf6.11 MBAdobe PDFดู/เปิด


รายการทั้งหมดในระบบคิดีได้รับการคุ้มครองลิขสิทธิ์ มีการสงวนสิทธิ์เว้นแต่ที่ระบุไว้เป็นอื่น