ผลของอัตราไหลแก๊สไนโตรเจนต่อโครงสร้างของฟิล์มบางไทเทเนียมโครเมียมไนไตรด์ที่เตรียมด้วยวิธีรีแอคทีฟสปัตเตอริงจากเป้าสารเคลือบแบบโมเสค

Abstract

ฟิล์มบางไทเทเนนียมโครเมียมไนไตรด์ (TiCrN) เคลือบด้วยวิธีดีซีรีแอคทีฟแมกนีตรอนสปัตเตอริงจาก เป้าสารเคลือบแบบโมเสค เพื่อศึกษาผลของอัตราไหลแก๊สไนโตรเจนและระยะห่างระหว่างวัสดุรองรับกับ เป้าสารเคลือบต่อโครงสร้างของฟิล์ม โดยลักษณะเฉพาะของฟิล์มที่เคลือบได้ศึกษาด้วยเทคนิค XRD, AFM, EDS และ FE-SEM ผลการศึกษาพบว่า ฟิล์มที่เคลือบได้เป็นสารละลายของแข็งของ (Ti,Cr)N โครงสร้างของฟิล์มแปรตามอัตราไหลแก๊สไนโตรเจนและระยะห่างระหว่างวัสดุรองรับกับเป้าสารเคลือบ (1) สาหรับกรณีแปรค่าอัตราไหลแก๊สไนโตรเจน พบว่าขนาดผลึกมีค่าในช่วง 41.4 – 69.6 nm และค่าคงที่ แลตทิซมีค่าในช่วง 4.169 – 4.179 Å. ความหนาของฟิล์มมีค่าลดลงจาก 336 nm เป็น 283 nm เมื่อเพิ่ม อัตราไหลแก๊สไนโตรเจน ฟิล์มที่เคลือบได้มีไทเทเนียม โครเมียมและไนโตรเจนเป็นองค์ประกอบใน อัตราส่วนต่าง ๆ แปรตามอัตราไหลแก๊สไนโตรเจน โครงสร้างจุลภาคของฟิล์มเป็นแบบคอลัมนาร์และมี ลักษณะแน่นขึ้นเมื่อเพิ่มอัตราไหลแก๊สไนโตรเจน และ (2) สาหรับกรณีแปรค่าระยะห่างระหว่างวัสดุรองรับ กับเป้าสารเคลือบ พบว่าขนาดผลึกมีค่าในช่วง 35.7 – 65.7 nm ส่วนค่าคงที่แลตทิซมีค่าในช่วง 4.169 – 4.229 Å. ความหนาของฟิล์มมีค่าลดลงจาก 500 nm เป็น 292 nm เมื่อเพิ่มแปรค่าระยะห่างระหว่างวัสดุ รองรับกับเป้าสารเคลือบ ฟิล์มที่เคลือบได้มีไทเทเนียม โครเมียมและไนโตรเจนเป็นองค์ประกอบใน อัตราส่วนต่าง ๆ แปรตามระยะห่างระหว่างวัสดุรองรับกับเป้าสารเคลือบ โครงสร้างจุลภาคของฟิล์มเป็น แบบคอลัมนาร์และมีลักษณะแน่นขึ้นเมื่อเพิ่มระยะห่างระหว่างวัสดุรองรับกับเป้าสารเคลือบ