กรุณาใช้ตัวระบุนี้เพื่ออ้างอิงหรือเชื่อมต่อรายการนี้:
https://buuir.buu.ac.th/xmlui/handle/1234567890/3673ระเบียนเมทาดาทาแบบเต็ม
| ฟิลด์ DC | ค่า | ภาษา |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | นิรันดร์ วิทิตอนันต์ | |
| dc.contributor.author | สุรสิงห์ ไชยคุณ | |
| dc.date.accessioned | 2019-09-30T03:26:27Z | |
| dc.date.available | 2019-09-30T03:26:27Z | |
| dc.date.issued | 2558 | |
| dc.identifier.uri | http://dspace.lib.buu.ac.th/xmlui/handle/1234567890/3673 | |
| dc.description.abstract | ฟิล์มบางไทเทเนียมอะลูมิเนียมไนไตรด์ (TiAlN) เคลือบด้วยวิธีรีแอคตีฟโคสปัตเตอริง เพื่อศึกษาผลของ พารามิเตอร์การเคลือบได้แก่ อัตราไหลแก๊สไนโตรเจน และกำลังไฟฟ้าของเป้าไทเทเนียมต่อโครงสร้างของฟิล์ม ทั้งนี้โครงสร้างผลึก ลักษณะพื้นผิว ความหนา ความหยาบผิว และองค์ประกอบธาตุ ศึกษาด้วยเทคนิค XRD, AFM, FE-SEM และ EDX ตามลำดับ ผลการศึกษาพบว่าโครงสร้างของฟิล์มที่เคลือบได้แปรตาม พารามิเตอร์ของการเคลือบ ฟิล์มที่เคลือบได้มีโครงสร้างผลึกของไทเทเนียมอะลูมิเนียมไนไตรด์ระนาบ (111) และ (200) โดยมีไทเทเนียม อะลูมิเนียม และไนโตรเจน เป็นองค์ประกอบ ทั้งนี้ (1) กรณีแปรค่า อัตราไหลแก๊สไนโตรเจนพบว่า เมื่ออัตราไหลแก๊สไนโตรเจนเพิ่มขึ้น ขนาดผลึกมีค่าเพิ่มขึ้นจาก 22.7 nm เป็น 33.4 nm ความหนาฟิล์มลดลงจาก 381 nm เป็น 131 nm ความหยาบผิวมีค่าในช่วง 1.8– 2.7 nm สำหรับ (2) กรณีแปรค่ากำลังไฟฟ้าของเป้าไทเทเนียมพบว่า เมื่อกำลังไฟฟ้าของเป้าไทเทเนียมเพิ่มขึ้น ขนาดผลึกลดลงจาก 30.4 nm เป็น 33.4 nm ความหนาเพิ่มขึ้นจาก 79 nm เป็น 226 nm ส่วนความ หยาบผิว มีค่าในช่วง 1.3 – 2.7 nm ทั้งนี้ฟิล์มไทเทเนียมอะลูมิเนียมไนไตรด์ที่เคลือบบนเหล็กแสดงสมบัติ การต้านการกัดกร่อนได้ | th_TH |
| dc.description.sponsorship | สำนักงานคณะกรรมการวิจัยแห่งชาติ | th_TH |
| dc.language.iso | th | th_TH |
| dc.publisher | คณะวิทยาศาสตร์ มหาวิทยาลัยบูรพา | th_TH |
| dc.title | การเตรียมฟิลม์บางต้านการกัดกร่อนซึ่งเคลือบด้วยกระบวนการ PVD | th_TH |
| dc.title.alternative | Preparation of Anti-Corrosion Thin Films Deposited by PVD Process | en |
| dc.type | Research | |
| dc.author.email | nirun@buu.ac.th | th_TH |
| dc.author.email | surasing@buu.ac.th | th_TH |
| dc.year | 2558 | |
| dc.description.abstractalternative | Titanium aluminium nitride (TiAlN) thin films were deposited by reactive DC co-sputtering method. The effect of deposition parameters, nitrogen gas flow rate and titanium sputtering target power, on the structure of the as-deposited film was investigated. The crystal structure, surface morphology, thickness, roughness and elemental composition were characterized by XRD, AFM, FE-SEM and EDX, respectively. The results show that the structure of the as-deposited film was varied with deposition parameters. The as-deposited films were composed of TiAlN with (111) and (200) planes, which has titanium aluminium and nitrogen as the elemental composition. (1) In case of vary nitrogen gas flow rate, it was found that, the crystal size increased from 22.7 nm to 33.4 nm, the thickness decreased from 381 nm to 131 nm and the roughness was in range of 1.8 – 2.7 nm, with increasing of nitrogen gas flow rate. (2) In case of vary titanium sputtering target power, it was found that, the crystal size decreased from 30.4 nm to 33.4 nm, the film’s thickness increased from 79 nm to 226 nm and the roughness were in range of 1.3 – 2.7 nm, with increasing of titanium sputtering target power. In addition the as-deposited TiAlN films on steel show the anti-corrosion property. | th_TH |
| dc.keyword | การต้นทานการกัดกร่อน | th_TH |
| dc.keyword | ฟิล์มบาง | th_TH |
| ปรากฏในกลุ่มข้อมูล: | รายงานการวิจัย (Research Reports) | |
แฟ้มในรายการข้อมูลนี้:
| แฟ้ม | รายละเอียด | ขนาด | รูปแบบ | |
|---|---|---|---|---|
| 2563_181.pdf | 7.63 MB | Adobe PDF | ดู/เปิด |
รายการทั้งหมดในระบบคิดีได้รับการคุ้มครองลิขสิทธิ์ มีการสงวนสิทธิ์เว้นแต่ที่ระบุไว้เป็นอื่น