การวัดความหนาของฟิล์มบางนาโนด้วยเทคนิคเอกซเรย์สเปคโตรสโคปีแบบกระจายพลังงาน

วิรุฬห์ พรมมากุล

dc.contributor.advisor	นิรันดร์ วิทิตอนันต์
dc.contributor.author	วิรุฬห์ พรมมากุล
dc.contributor.other	มหาวิทยาลัยบูรพา. คณะวิทยาศาสตร์
dc.date.accessioned	2023-05-12T02:25:51Z
dc.date.available	2023-05-12T02:25:51Z
dc.date.issued	2560
dc.identifier.uri	https://buuir.buu.ac.th/xmlui/handle/1234567890/6136
dc.description	วิทยานิพนธ์ (วท.ม.)--มหาวิทยาลัยบูรพา, 2560
dc.description.abstract	งานวิจัยนี้มีวัตถุประสงค์เพื่อศึกษาวิธีการวัดความหนาของฟิล์มบางที่มีความหนาระดับนาโนเมตรด้วยเทคนิคเอกซ์เรย์สเปคโตรสโคปี แบบกระจายพลังงาน (EDS) ซึ่งติดตั้งต่อพ่วงอยู่กับกล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนแบบส่องกราด (SEM) ฟิลม์ ตัวอย่างในการศึกษาคือฟิลม์ โครเมียม (Cr) ที่เคลือบบนกระจกสไลด์และแผ่นซิลิกอนด้วยวิธีสปัตเตอริง โดยโครงสร้างผลึก ความหยาบผิว ความหนา โครงสร้างจุลภาค และองค์ประกอบทางเคมีของฟิล์มศึกษาด้วยเทคนิค GA-XRD, AFM, FE-SEM และ EDS ตามลำดับ ผลการศึกษาพบว่าฟิลม์ที่เคลือบได้มีสีเทาเข้ม ผิวเนียนเรียบ มันวาวสะท้อนแสงดี ความหนาของฟิล์มบางที่ใชในงานวิจัยมีค่าอยู่ในช่วง 50.5 -284.5 nm โดยความเข้มของรังสีเอกซ์ลักษณะเฉพาะของ Cr L จากฟิลม์กับความหนาฟิลม์ สัมพนัธ์กันตามสมการ I I (1- e ) - d d s   ส่วนความเข้มของรังสีเอกซ์ลักษณะเฉพาะของSi K จากวัสดุรองรับกับความหนาฟิลม์ สัมพันธ์กันตามสมการ - d d s I I e   เมื่อ Id เป็นความเข้มของ รังสีเอกซ์ลักษณะเฉพาะจากฟิลม์ ที่มีความหนาเท่ากับ d และ Is เป็นความเข้มอิ่มตัวของรังสีเอกซ์ ลักษณะเฉพาะ ส่วน  เป็น ค่าสัมประสิทธ์ิการลดทอนเชิงเส้น ทั้งนี้ความหนาของฟิล์มบาง จากเทคนิคเอกซ์เรยส์ เปคโตรสโคปีแบบกระจายพลังงานในงานวิจัยนี้มีความถูกต้องถึง 95% เมื่อเทียบกับความหนาของฟิลม์ บางที่ได้จากเทคนิค FE-SEM
dc.language.iso	th
dc.publisher	คณะวิทยาศาสตร์ มหาวิทยาลัยบูรพา
dc.rights	มหาวิทยาลัยบูรพา
dc.subject	มหาวิทยาลัยบูรพา -- สาขาวิชาฟิสิกส์
dc.subject	ฟิล์มบาง -- พื้นผิว
dc.title	การวัดความหนาของฟิล์มบางนาโนด้วยเทคนิคเอกซเรย์สเปคโตรสโคปีแบบกระจายพลังงาน
dc.title.alternative	Thickness mesurement of nno thin film by energy dispersive x-ry spectroscopy technique
dc.type	วิทยานิพนธ์/ Thesis
dc.description.abstractalternative	The objective of this research work is to study the thickness measurement of the thin film with the thickness scale in the range of the nanometerusing energy dispersive X-ray spectroscopy technique (EDS), which equips in the scanning electron microscope (SEM). The metal thin films of chromium (Cr) weredeposited on glass slides and silicon substrates by sputtering method. The Crystal structure, roughness, thickness, microstructure and elemental component of films were characterized by GA-XRD, AFM, FE-SEM, and EDS technique, respectively. The results showed that the as-deposited chromium thin films exhibitvery bright color ofdark gray, smooth surface and highly reflectance. The thickness of the films in this study is in the range of 50.5 -284.5 nm. The intensity of the characteristic X-ray of Cr L from films are related to film thickness obeyed the equation as I I (1- e ) - d d s   , while the intensity of the characteristic X-ray of Si K from substrates are related to film thickness obeyed the equation of - d d s I I e   , where Id is the intensity of the characteristic X-ray from the film thickness d, Is is the saturation intensity of the characteristic X-ray and  is the linear attenuation. The thickness of the films from this models is agreement with the thickness from FE-SEM techniqueof 95%.
dc.degree.level	ปริญญาโท
dc.degree.discipline	ฟิสิกส์
dc.degree.name	วิทยาศาสตรมหาบัณฑิต
dc.degree.grantor	มหาวิทยาลัยบูรพา